VARIO®化學真空系統(tǒng) MD 4C EX VARIO +AK+EK描述：

通過使用新型的ATEX VARIO®化學隔膜泵和化學真空系統(tǒng)，真空度可以通過電機速度調控。VARIO®真空泵可以通過一條額外的控制信號線進行驅動。可選的CVC 3000控制器及系統(tǒng)附件（I/O-模塊, 供應/隔離放大器）和ATEX傳感器可以進行全自動的蒸餾工藝，而不再需要參數(shù)設定或者使用編程。在適應性控制作用下，系統(tǒng)可以獨立找到沸點壓力、持續(xù)調節(jié)真空度并且根據(jù)蒸汽壓力進行優(yōu)化。

真空控制器和系統(tǒng)附件都安裝在非爆炸區(qū)域。

性能特性

• 具備ATEX防爆化學隔膜泵的所有優(yōu)點，帶進氣口收集瓶AK和出氣口冷凝器EK
• 無滯后的VARIO®真空控制，使過程時間更短
• VARIO®-真空泵僅根據(jù)需求的大小來調節(jié)轉速 - 小的能耗，更長的維護周期，運行安靜
• CVC 3000真空控制器（可選件），可實現(xiàn)真空控制和全自動的工藝
• 可提供全套的系統(tǒng)附件I/O-模塊, 供應/隔離放大器和ATEX真空傳感器

VARIO®化學真空系統(tǒng) MD 4C EX VARIO +AK+EK技術參數(shù)：